澳大利亚核科学技术组织和悉尼科技大学的一组研究人员使用配备真空炉的 Spatz 反射仪，在 1,100 摄氏度下进行薄膜实验，创下了纪录。
中子反射仪与高温仪器的独特结合，使人们能够从原子尺度洞察薄膜的生长和扩散过程。这与各种薄膜技术和设备相关，这些技术和设备需要经过一系列加工和热处理条件才能优化性能。
UTS 团队由 Francesca Iacopi 和 Aiswarya Pradeepkumar 领导，一直在研究高温下在 SiC/Si 基板上生长薄碳片(石墨烯)。这一屡获殊荣的工艺可实现高导电性电子产品，并可与标准硅制造工艺集成。
为了更好地了解碳的生长机制和起始温度，UTS 团队充分利用了澳大利亚中子散射中心的 Spatz 中子反射仪。
中子反射法可以研究厚度为 1-100 纳米的薄膜。由于中子的独特特性，可以在先进的样品环境中进行现场研究，在这种情况下，可以使用精密的真空炉观察薄膜在几分钟到几小时的时间尺度上的变化。
Aiswarya Pradeepkumar 博士是 ARC 变革性超光学系统中心的研究员，也是澳大利亚核科学与工程研究所 (AINSE) 早期职业资助的获得者，他领导了 ANSTO-UTS 合作实验，这是澳大利亚首次此类实验。